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沿革

1973年
(昭和48年)
1月 ウシオ電機よりクセノン放電管製造部門を分離独立。
東京ゼノン株式会社としてストロボ用クセノン放電管の製造開始。
資本金 500万円
1974年
(昭和49年)
1月 特殊放電管および口金用セラミックの製造開始。
1977年
(昭和52年)
5月 資本金を2000万円に増資。
1979年
(昭和54年)
  資本金を4000万円に増資。
1982年
(昭和57年)
12月 クセノン放電管用特殊電源の製造開始。
1983年
(昭和58年)
6月 フラッシュランプの製造開始。
1987年
(昭和62年)
10月 筑波工場を新設。
1995年
(平成7年)
1月 分離型クセノンフラッシュランプ(ゼノブロック)を製造開始。
2001年
(平成13年)
4月 高圧UVランプ、低圧UVランプ、メタルハライドランプ、YAG励起用ランプの製造開始。
5月 筑波事業所に第2号棟完成。
2004年
(平成16年)
3月 ISO9001認証取得。
2005年
(平成17年)
4月 ISO14001認証取得。

ISO14001認証

ISO9001認証


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